半導體工業生產氮氧化物的有機廢氣處理

半導體是指在常溫狀態導電性能處于電導體與導電體中間的原材料，半導體在生產的過程當中會產生一種氮氧化物的有機廢氣，今日了解一下有關半導體工業生產氮氧化物的有機廢氣處理。

氮氧化物分成一氧化二氮(N2O)、一氧化氮(NO)、二氧化氮(NO2)、三氧化二氮(N2O3)、四氧化二氮(N2O4)和五空氣氧化二氮(N2O5)等，氮化合物遇光、濕或熱變為二氧化氮及一氧化氮，一氧化氮又變成二氧化氮，不一樣價位氮化合物毒副作用不一樣。

比較常見的半導體原料有硅、鍺、氮化鎵等，制造廠在生產階段的主要污染物有一氧化氮、一氧化二氮、二氧化氮、三氧化二氮、四氧化二氮和五空氣氧化二氮、HF等。

半導體氮氧化物有機廢氣所采用的點燃控制系統、脫硫裝置技術和爐膛內噴涌吸附劑，工業有機廢氣處理的NOx一般采用全過程后處理工藝，去除技術性又分干法和干法兩種，干法包含催化氫化鋁鋰、催化分解法、吸附法等，干法包含催化氫化鋁鋰、催化分解法、吸附法。

濕式于干法對比，所采用的污水處理工藝簡易、吸附劑品種多、實際操作花費便宜、適應能力強等優點。