新材料半導體行業的廢氣應該怎么處理

伴隨著科技的進步，目前市面上新材料領域與傳統技術對比，其運用范圍廣泛了，新材料產業研究與開發資金投入高，產品附加值高在制造與市場全球性強，并且新材料半導體行業的前景好。

而新材料半導體行業在生產的過程當中采用清潔劑、顯像劑、光刻技術、蝕刻液等有機溶劑，這種有機溶劑中含有大量有機化合物成份，在所有加工工藝加工制作過程中將會出現的部分有機溶液絕大多數根據蒸發變成廢氣排出，這一部分揮發的廢氣主要成份為具備揮發物的VOCs，下邊講解一下有關：新材料半導體行業的廢氣應該怎么處理。

新材料半導體行業的廢氣除開帶有VOCs之外，還沾有HCl、氨、HF等危險污染物質，創清環境保護采用的是RTO蓄熱式焚燒爐去處理半導體行業的廢氣：

工業生產廢氣中主要是帶有硫化氫氣體、堿性氣體、有機化學廢氣和有害氣體四種，本身所具有的融解特點，半導體材料工業生產氣體盡管消耗量大，可是氣體濃度值低。

RTO機器設備采用的是持續高溫毀壞焚燒處理的廢氣整治技術性，提溫電力能源一般是電和燃氣，其持續高溫需達到700度或是之上，盡管環境溫度需達到700度以上，但其實耗費的電力能源并不多，機器運行期內的部分熱量是可以回收利用再次運用的，減少卡路里消耗的前提下提升了廢氣分子的點燃化學反應速率。

創清環境保護半導體器件廢氣環保處理設備的清潔高效率可保持保持在99%之上。